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《光科学与应用》:中国科学家开发177纳米真空紫外激光器

CHEN

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如果真空紫外激光可以聚焦成一个小束点,将可用于研究介观材料和结构,并使制造纳米物体具有更加的精度。

为了实现这一目标,中国科学家发明了一种177纳米的VUV激光系统,可以在长焦距处获得亚微米焦点。该系统可以重新配置用于低成本的角度分辨光电发射光谱,并可能推动凝聚态物理研究。

在《光科学与应用》(Light Science & Applications)发表的一项研究成果显示,研究人员利用无球像差的带板开发了一种177 nm VUV激光扫描光电发射显微镜系统,该系统在长焦距(~45 mm)下具有<1μm的焦斑。

基于这种显微镜,他们还建立了一个离轴荧光检测平台,在揭示材料的细微特征方面表现出优于传统激光系统的能力。

与目前用于ARPES的具有空间分辨率的DUV激光源相比,177 nm VUV激光源可以帮助ARPES测量覆盖更大的动量空间,具有更好的能量分辨率。

该VUV激光系统具有超长焦距(~45 mm)、亚微米空间分辨率(~760 nm)、超高能量分辨率(~0.3 meV)和超高亮度(~355 MWm-2)。可直接应用于光电发射电子显微镜(PEEM)、角度分辨光电子能谱仪(ARPES)、深紫外激光拉曼能谱仪等科研仪器。

目前,该系统已与上海理工大学的ARPES连接,揭示了各种新型量子材料的精细能带特征,如准一维拓扑超导体TaSe3、磁性拓扑绝缘体(MnBi2Te4)(Bi2Te3)m族等。

编译/前瞻经济学人APP资讯组

论文链接:

https://www.nature.com/articles/s41377-021-00463-3


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